과거 몇 년 전 까지만 해도 금속 재료 시편 전처리의 성분 분석에 관해 검출 한계가 있었지만,

두 소프트웨어 OES, XRF 장비의 개선과 발전으로 더욱더 중요한 부분이 되었습니다.

시편의 적절한 준비가 매우 중요하며, 또한 결과에 영향을 줄 수 있는 요소를 제거하기 위해서샘플 표면을

균일하게 할 필요가 있습니다. 샘플의 적절한 준비는 매우 중요합니다. 샘플 표면에 영향을 미치는 요소를

제거하기 위한 대표성 및 균일성을 필요로 합니다.

 
     

 

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